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技术文章/ article
ALS旋转环盘电极仪:电化学研究的“洞察之眼”在电化学研究的广阔天地中,揭示反应机理是核心任务之一。许多重要的电化学反应,如氧还原反应、析氧反应、以及复杂的催化过程,都涉及不稳定的中间产物。这些中间体寿命极短,浓度很低,但却承载着反应路径的关键信息。传统的静态电极技术难以捕捉这些“惊鸿一瞥”的物种。而旋转环盘电极仪,特别是由日本ALS株式会社这类专业电化学仪器制造商生产的高精度设备,则为我们提供了强大的工具,能够在盘电极上生成中间产物的同时,在环电极上对其进行动态检测,从而实...
共立KEW-ITD是一款专为测量杀菌紫外线(UVC,波长254nm)照度而设计的高精度手持式仪器。它主要用于验证和监测使用UVC灯进行表面、空气和水体消毒的效果,确保消毒设备工作在有效范围内。核心特点精准的UVC测量:传感器经过特殊设计,对254nm波长的紫外线具有极的高的灵敏度,并能有效过滤掉可见光和其他非目标波长的紫外线(如UVA、UVB),确保读数的准确性。这对于有效评估杀菌效果至关重要。符合国际安全标准:其测量方法和性能符合JISC1609-1:2020(日本工业标准...
一、核心概述:它是什么?KETTKB-30是一款由日本KETT电气实验室株式会社生产的在线式近红外水分仪。它的主要特点是:在线检测:安装在生产线(如传送带、管道等)上,对移动中的物料进行连续、实时的水分测量。非接触式:传感器不接触物料,避免了磨损和对物料的污染,特别适合清洁要求高的行业。快速响应:近红外光测量速度极快,能瞬间读取水分数据,几乎没有延迟。高精度:采用特定的近红外波长,对水分子有很好的吸收特性,从而实现高精度测量。二、工作原理KB-30基于近红外吸收法:发射:仪器...
一、在石油化工行业的作用石化行业通常拥有大规模的蒸汽管网和高温高压设备。保障关键工艺装置稳定运行加热不均:影响反应效率和产品收率。水锤现象:高压蒸汽遇到管道中的冷凝水会产生巨大冲击力,可能损坏管道和设备,甚至引发安全事故。作用:在裂解炉、精馏塔、反应器的蒸汽伴热和加热系统中,疏水阀一旦失效(泄漏或堵塞),会导致:TLV工具的应用:定期使用超声波检漏仪巡检,可以提前发现故障疏水阀,预防性更换,避免非计划停机。节能降耗,直接降低生产成本作用:石化厂是能耗大户。一个高压蒸汽疏水阀泄...
一、核心技术与特点理光工业喷墨头采用薄膜压电式技术,其核心优势在于:高精度与高分辨率采用精密的MEMS制造工艺,喷嘴孔径小,排列密集。可以实现高达1200npi甚至更高的原生分辨率,打印效果细腻,线条和文字清晰锐利。高速度与高频率喷墨频率非常高,主流型号可达30-50kHz,这意味着每个喷嘴每秒可以喷射数万滴墨滴。通过增加喷嘴数量(如MH5420/5421拥有2048个喷嘴),实现了在单次扫描中覆盖更大面积,从而达成极的高的生产速度。可变墨滴技术这是理光喷头的王的牌技术之一。...
核心技术与工作原理理光塑料分类传感器通常采用高精度近红外(NIR)光谱分析技术。其工作原理是:照射:传感器向被测塑料发射近红外光。吸收:不同种类的塑料分子会对特定波长的近红外光产生吸收。分析:传感器接收反射回来的光线,并分析其光谱“指纹”。识别:将获得的光谱与内置的庞大数据库进行比对,瞬间确定塑料的种类(如PET、HDPE、PVC、PP、PS等),甚至能识别颜色、添加剂和杂质。主要适用场景理光的塑料分类传感器主要应用于以下对分拣纯度要求极的高的工业场景:1.塑料回收处理中心(...
半导体制造的洁净基石:精密清洗技术与SONOSYS的解决方案在纳米尺度上构筑庞大计算世界的半导体工业,其基石在于对“洁净”的极的致追求。制造过程中的任何微小污染物——即便是纳米级的颗粒、微不足道的有机物残留或是痕量的金属离子——都如同落入精密钟表里的沙粒,足以导致整个芯片性能失效、良率暴跌。因此,贯穿于硅片、芯片乃至光掩膜版制造的每一环节,清洗工艺都扮演着不的可的或的缺的“清道夫”角色,其技术水平直接决定了集成电路的性能与可靠性。一、为何清洗?——微观世界中的无形之战半导体清...
为真理探索扫清障碍:SONOSYS实验室清洗方案,确保无污染起点在科学研究的征途中,实验室是探索真理的核心阵地,而实验器具的清洁度则是确保实验结果准确性和可靠性的关键前提。SONOSYS实验室清洗方案以其先进的技术、精准的清洗效果和高度的可靠性,为科研人员提供了一个无污染的起点,助力科学研究的每一步都建立在坚实的基石之上。一、实验室清洗的重要性实验室是科学研究的基石,而实验器具的清洁度直接影响实验结果的准确性和可靠性。无论是化学分析、生物实验还是物理测试,任何微小的污染都可能...
量身定制,净益求精:TEKHNETK-100满足您独特的实验室清洗需求在实验室环境中,清洗工作往往面临着多样化的挑战。从精密仪器的维护,到实验样品的预处理,再到各类实验器具的清洁,每一个环节都要求极高的清洁标准和精准的操作。TEKHNETK-100清洗设备以其高度的灵活性和卓的越的性能,为实验室提供了量身定制的清洗解决方案,助力科研人员专注于核心实验工作,无需为清洗环节耗费过多精力。一、实验室清洗的特殊需求实验室清洗工作具有以下特点和需求:(一)多样化的清洗对象实验室中需要清...
芯净界,新标准:TEKHNETK-100重新定义精密清洗价值在精密制造领域,清洗工艺一直是确保产品质量和性能的关键环节。随着科技的飞速发展,传统清洗技术已难以满足高的端制造对超洁净表面的要求。TEKHNE公司推出的TK-100精密清洗设备,凭借其创新的技术和卓的越的性能,重新定义了精密清洗的价值,为精密制造行业树立了新的标准。一、精密清洗的行业痛点在现代精密制造中,无论是半导体芯片、航空航天零部件,还是高的端光学元件,表面清洁度都直接影响产品的性能、可靠性和寿命。然而,传统清...
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