SONOSYS兆声波清洗机3MHz

设备依托高频声波空化与微射流效应，区别于传统低频超声波清洗，支持 400kHz‑9MHz 宽频率区间选择，可剥离低至百纳米级微小颗粒污染物，高频模式下空化气泡微小柔和，在强力去污的同时保护微纳精细结构，避免工件图案、薄壁器件发生损伤，大幅提升产品良品率。产品包含兆声波发生器、单 / 双 / 三喷嘴、浸入式换能器等多种配置，喷嘴式实现无接触定点清洗，能量集中于 2‑4mm 区域；槽式换能器适

产品型号：13407-059
厂商性质：经销商
更新时间：2026-08-06
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品牌	新加坡SONOSYS	产地	进口

# SONOSYS超声波（兆声波）清洗机SONOSYS是德国专注高频兆声波精密清洗品牌，深耕微纳清洗技术多年，全套设备从发生器、压电换能器到整套系统均为自主研发生产，严格遵循德国工业制造标准，面向半导体、MEMS微机电、光学、医疗器件及科研领域，提供纳米级无损精密清洗解决方案。区别于普通低频超声波清洗设备，SONOSYS兆声波系统工作频率覆盖400kHz‑9MHz区间，依靠高频空化效应与液体微射流完成清洗。高频工况下生成的空化气泡尺寸微小柔和，既能高效剥离百纳米级微细颗粒污染物，又可以有效避免微结构、光刻图形、薄壁器件发生冲击损伤，大幅提升精密工件的良品率，解决传统超声容易造成器件崩边、图案破坏的行业痛点。整套系统主要包含数字兆声波发生器、喷嘴式清洗单元、浸入式换能器三大核心部件。喷嘴系列分为单喷嘴、双喷嘴与三喷嘴，兆声波能量集中在2‑4mm狭小区域，实现无接触定点清洗；双/三喷嘴支持多频率同步组合输出，可同时处理不同粒径污染物，适配单片晶圆、掩膜版定点清洗工艺。浸入式换能器可直接加装于现有清洗槽内部，无需改造槽体，便于产线升级改造，适合多工件批量浸泡清洗。数字发生器支持10%‑100%功率连续可调，搭载自动调谐功能，通过Modbus通讯协议可对接PLC控制系统，实现远程参数设置、运行状态监控与故障诊断，能够无缝集成至自动化湿法工艺产线。接触药液部件采用石英玻璃、PTFE、FFKM等耐腐蚀材质，兼容去离子水及各类酸碱清洗药液，满足工业长时间连续运行工况。产品广泛应用于半导体晶圆、光刻掩膜版、MEMS微器件、光学镜片、传感器芯片、生物微流控芯片、精密医疗零部件清洗，同时适配高校与科研机构微纳样品前处理实验。设备化学药剂消耗量低，工艺可复现性强，还可根据工件尺寸、污染物类型、产线工况进行频率、功率、硬件结构的定制开发。凭借稳定可靠的性能，SONOSYS兆声波清洗设备成为微纳制造行业纳米颗粒去除的主流选型设备。

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