SONOSYS 13406-002双频兆声波发生器搭配13792-005/51喷嘴

更新时间：2026-07-13

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SONOSYS 13406-002是德国2MHz+4MHz双频兆声波发生系统，搭配原装配套13792-005/51 PTFE外壳+石英兆声波喷嘴，是半导体、光学、MEMS精密制程中经典的定点式纳米清洗模组。整套系统实现“粗洗剥离+纳米精洗"一体化工艺，以DI水或弱酸弱碱药液为介质，无接触、无划伤、无二次污染，广泛应用于洁净无尘车间量产湿法清洗设备。

一、产品配置与核心参数

兆声波发生器 13406-002

设备采用双通道独立输出设计，双频互不干扰、可单独启停切换，适配多工艺工况：

低频通道：2MHz / 18W，强空化剥离能力
高频通道：4MHz / 25W，细腻纳米级精洗效果
智能自动频率追踪，负载自适应，长期输出稳定
模块化紧凑型结构，方便集成单片清洗机、自动化清洗台

配套兆声波喷嘴 13792-005/51

外壳材质：PTFE聚四氟乙烯，耐强酸强碱、耐药液腐蚀
喷头材质：高纯石英材质，声波穿透率高、极低掉颗粒
聚焦式定点清洗，能量集中，清洗精度高、覆盖均匀
全高洁净结构，无金属析出，满足半导体超高洁净制程要求

二、2MHz＋4MHz双频工艺优势

双频组合是精密清洗行业的黄金搭配，有效解决单频设备“洗不干净"或“洗伤工件"的痛点。

2MHz（18W）强力去污：空化力度更强，可快速剥离晶圆表面微米级粉尘、有机污渍、残胶、CMP抛光浆料、表面附着颗粒，适合前道主力去污工序，清洗效率高、除杂。

4MHz（25W）纳米精洗：高频空化气泡更细密、冲击更柔和，专门针对0.1μm以下纳米微粒、表面吸附杂质、微细缝隙残留。对薄膜结构、光学镀膜面、微纳薄壁结构无损，大幅提升产品良率。

一套设备覆盖两道制程，无需两套发生器交替使用，节省设备成本、缩减产线空间、简化设备运维。

三、PTFE＋石英喷嘴材质优势

13792-005/51喷嘴采用双层高耐腐、高洁净材质结构，适配严苛湿法工艺：

PTFE外壳具备优异的耐化学性，可长期耐受各类半导体清洗药液，不腐蚀、不析出、不污染介质；高纯石英喷头声波损耗极低，聚焦性能强，清洗一致性高，同时材质致密不掉粉，适配高等级无尘车间生产标准。

四、工作原理与清洗特点

整套系统采用非接触式定点兆声波清洗技术，发生器将高频电能传输至喷嘴换能结构，在液体介质中产生均匀可控的高频空化效应，通过微观气泡生成与溃灭，温和剥离工件表面各类微观污染物。全程无摩擦、无研磨、无机械接触，真正实现高精度、零损伤、超洁净清洗效果。

五、主要应用场景

半导体制程：硅片、化合物半导体晶圆清洗、光刻残胶去除、CMP后清洗、掩模版清洗、封装微孔清洁
光学光电行业：光学镜片、镀膜基底、玻璃基板、镜头组件镀膜前后超净清洗
MEMS微纳制造：微传感器、微流控芯片、微型精密结构无损清洗
精密电子与科研：精密元器件、微型线路板、实验室微纳试样超高洁净处理

六、产品总结

SONOSYS 13406-002双频兆声波发生器搭配13792-005/51 PTFE石英喷嘴，凭借成熟的2MHz+4MHz双频工艺、防腐高纯材质、稳定原装性能，成为精密制造湿法清洗的标准配套模组。兼顾清洗效率与制程良率，适配自动化产线集成与设备升级替换，是精密清洗场景的优选解决方案。

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