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更新时间:2026-07-13
浏览次数:3本文针对USHIO日本牛尾SUV全系、USH全系光刻机超高压汞灯做统一用途说明,涵盖全型号工艺定位、设备适配、行业应用与功能区分,适配半导体光刻、精密光学曝光、设备维修替换场景,是尼康光刻机及精密光学设备专用核心紫外光源。两大系列均为短弧超高压汞灯,主打高稳定365nm i线紫外输出、光斑均匀、光谱一致性强,适配工业精密微纳加工量产制程。

半导体晶圆光刻曝光:主打365nm i线紫外光谱,适配0.35μm–0.5μm成熟制程,用于硅片、化合物半导体晶圆图形转移,覆盖逻辑芯片、功率半导体、分立器件量产曝光工艺
光掩模版/光刻版制版:高精度均匀光斑,满足掩膜版微细线路曝光需求,保障光刻图案精度与一致性,有效降低制程缺陷率
MEMS与微纳结构曝光:适配高深宽比微机电结构、微型传感器、微流控芯片的光刻成型,兼顾曝光精度与工艺稳定性
光学与显示行业制程:LCD/OLED基板、光学滤光片、彩色膜层、触控面板微细图案曝光加工
2000W级(SUV-2000NIL、2011NIL、2001NIL、2002NIL):适配中低产能量产机型,功耗适中、寿命稳定,适合常规晶圆、光学元件批量曝光
2500W级(SUV-2501NIL、2510NIL):高功率高光强版本,适配高产能、大尺寸晶圆曝光场景,曝光效率更高,光斑能量更充足,适配高精度严苛制程
光刻机精密对位/对准光源:为尼康光刻机提供高精度视觉对位光源,保障晶圆、掩膜版贴合精度,是光刻套刻精度的核心保障
机台缺陷检测光源:用于设备光路自检、镜片污染检测、光路校准,保障光刻机光学系统长期稳定运行
小型精密UV曝光:适配小尺寸芯片、科研试样、精密PCB线路、微型器件局部曝光、UV固化、光刻打样
光学仪器分析光源:适配光谱分析仪、荧光显微镜、精密光学检测设备,提供标准紫外光源
FNL基础款(USH-1000FNL、USH-1002FNL):通用型辅助光源,适配常规机型对位、检测、基础曝光场景
FNL3升级款(USH-1000FNL3、USH-1002FNL3):优化灯座与散热结构,适配新一代G6/G7系列光刻机,稳定性与使用寿命升级
FNIL2专用款(USH-1002FNIL2):尼康设备专属定制版本,接口精准匹配特定机型,专为步进光刻机配套
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