Toho-Tec 东朋科技TohoSpec3100系列光干涉式膜厚测量装置

更新时间：2026-04-13

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产品概述

TohoSpec3100系列是Nanometrics（现Onto Innovation）NanoSpec3000系列的正式后继机，2014年起由东朋科技承接技术转移并开始制造销售。该系列是业界标准的高精度光干涉式膜厚测量设备，在半导体研发领域拥有长期信赖和实绩。

两款型号对比

核心特点

1. 高精度测量性能

采用线性二极管阵列受光元件，实现高速、高精度测量

测量再现精度可达2Å以下（同一点15次测定）

可同时测量最多3层多层膜的膜厚及光学常数(n,k)

2. 先进的光谱分析软件

配备多种薄膜测量算法（最多15种标准算法）

支持Cauchy模型、OJL模型、Tauc-Lorentz模型、扩展Drude模型等光学材料表征模型

可评估表面粗糙度（EMA模型）和深度方向非均匀性（分级模型）

3. 灵活的程序设定

可根据不同膜特性设定详细参数，适应各类膜结构

支持特殊膜测量程序的简单设定

兼容旧机型NanoSpec3000的recipe移植

4. 系统配置

操作系统：Windows 7/10（32位英文版）

计算机要求：Core i5以上，支持台式机或笔记本

连接方式：RJ-45以太网接口

数据处理：测定值、统计值（平均值、σ、3σ）、直方图、5点校正等

主要应用领域

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Toho-Tec 东朋科技TohoSpec3100系列 光干涉式膜厚测量装置