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SENA 超高照度 LED 照明装置 SELONE N —— 半导体不可缺照明装置

更新时间:2026-01-24      浏览次数:2

一、从“看得清"到“测得准":半导体照明的第二次革命28 nm → 14 nm → 7 nm → 3 nm,线宽逼近原子级,光学检测却必须面对三大矛盾:



  1. 照度越高,热漂移越大;
  2. 波长越短,芯片寿命越短;
  3. 积分时间越短,信噪比越差。
SENA 用 SELONE N 系列给出新答案:
‑ 在 400-700 nm 可见区输出 3.8×10⁶ lx(@100 mm WD),比传统 200 W 卤素提升 2.3 倍;
‑ 灯体表面温升 < 8 °C,无需主动风冷;
‑ 寿命 50 000 h,L70 光衰 < 5 %,是卤素的 16 倍;
‑ 支持 0-100 % 无级调光、10 kHz 高频斩波,可帧同步、线同步、脉冲同步。
一句话:把“太阳级"照度装进一颗冷光源,让半导体量测/检测/对准系统在不升温的前提下跑出“极限帧率"。

二、核心技术拆解


  1. 多晶 CUD(Copper-on-Diamond)基板
    ‑ 热导率 650 W/m·K,比 AlN 高 4 倍,结温直降 18 °C;
    ‑ 基板厚度 0.3 mm,可把 120 W 电功率压缩到 12 mm×12 mm 发光面,实现 10 W/mm² 功率密度。

   8 通道窄波矩阵 LED‑ 405/450/505/530/590/625/660/740 nm 八波段独立可控;‑ 每通道 16 bit 调光,可在 1 ms 内切换“明场→暗场→红外穿透"三种照明模式,无需机械滤光轮。



Fly-Eye 积分棒 + 微透镜阵列
‑ 出光面不均匀度 < 2 %(Φ100 mm 靶面);

‑ 远心度 < 0.05°,与高精度 Telecentric Lens 匹配,边缘视场测量误差 < 30 nm。


主动电源闭环

‑ 内置积分球采样器,每 10 µs 读取一次光通量,实时补偿 LED 结点老化、驱动温漂;
‑ 30 min 稳定性 ±0.1 %,满足 SEMI S2 量测级光源要求。


三、半导体典型用途


  1. Overlay 套刻对准
    ‑ 590 nm+660 nm 双波同轴照明,抗 Cu/Al 栅格眩光;
    ‑ 照度 3.8×10⁶ lx,对准相机积分时间从 5 ms 缩至 1.2 ms,套刻误差预算降低 0.3 nm。
2 E-beam 写场前预对准
‑ 405 nm 短波高吸收,对 TaN 标记对比度提升 40 %;

‑ 10 kHz 频闪与束闸同步,避免连续照明造成光刻胶漂移。

3 电子封装 ABF 缺陷检测

‑ 740 nm 近红外穿透 120 µm 黑色 ABF,可一次性检出 5 µm 气泡/异物;
‑ 八波段分时频闪,替代 4 组卤素+滤光片,检测 UPH 提升 28 %。


4.   3D NAND 深孔 CD-SEM 前预检
‑ 505 nm 窄波配合暗场散射,提前发现 50 nm 深孔桥接,减少 SEM 复检 35 %。


5.Micro-bump 共面性量测

‑ 530 nm 绿光+结构化条纹,实现 0.5 µm 高度分辨率,与白光干涉仪相关性 R=0.99,速度提升 5 倍。


四、落地数据
• 国内 12″ 逻辑厂 14 nm 产线
– 替换 250 W 卤素,单台节省 1.2 kW 功耗,全年省电 10 万度;
– 光源维护周期从季度延长到 3 年,OEE + 2.1 %。



存储器龙头 3 nm pilot

– SELONE N 405 nm 通道与 EUV 曝光机预对准模块集成,对准标记捕获率由 97 % 提升到 99.5 %;
– 单批次 25 片 wafer 预对准时间缩短 18 s,折算年化产能 + 1.8 万片。


五、选型与集成指南


  1. 出光方式
    ‑ 光纤版本:Φ8 mm 液芯光纤,弯曲半径 50 mm,适合机械手内照明;
    ‑ 直线版本:内置 45° 反射镜,高度 35 mm,可直接替换传统卤素灯导轨。
2 控制接口
‑ 标配 Ethernet/IP + Modbus TCP,提供 LabVIEW/MATLAB 驱动;

‑ 硬件触发:5 V TTL,延迟 < 100 ns,抖动 < 50 ns。


3 热管理

‑ 自然散热可满足 50 % 占空比;

‑ 100 % 连续输出时,外接 1 L/min 水冷板即可把壳温控制在 35 °C 以下。


4 安全与认证
‑ IEC 62471 Exempt 等级,表面无 UV 泄露;

‑ SEMI S2/S8、CE、RoHS 全部通过,可直接上 FAB 二次配。


六、结语
当 EUV、High-NA、GAA 成为头条,人们容易忽略:70 % 的良率损失仍来自“测不准"。SELONE N 用一颗冷光源把照度推向 10⁶ lx 量级,让“可见光"在 3 nm 时代继续担当守门员——它不抢风头,却能让 overlay 再稳 0.3 nm,让缺陷再小 2 µm,让产能再多 3 %。
在半导体制造的纳米长跑里,SELONE N 就是那束发热的“冷太阳",照亮每一道关键工序,也照亮良率与成本的下一个拐点。







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