
products category
更新时间:2026-01-24
浏览次数:2一、从“看得清"到“测得准":半导体照明的第二次革命28 nm → 14 nm → 7 nm → 3 nm,线宽逼近原子级,光学检测却必须面对三大矛盾:
二、核心技术拆解
8 通道窄波矩阵 LED‑ 405/450/505/530/590/625/660/740 nm 八波段独立可控;‑ 每通道 16 bit 调光,可在 1 ms 内切换“明场→暗场→红外穿透"三种照明模式,无需机械滤光轮。
‑ 远心度 < 0.05°,与高精度 Telecentric Lens 匹配,边缘视场测量误差 < 30 nm。
主动电源闭环
三、半导体典型用途
‑ 10 kHz 频闪与束闸同步,避免连续照明造成光刻胶漂移。
3 电子封装 ABF 缺陷检测
5.Micro-bump 共面性量测
‑ 530 nm 绿光+结构化条纹,实现 0.5 µm 高度分辨率,与白光干涉仪相关性 R=0.99,速度提升 5 倍。
四、落地数据
• 国内 12″ 逻辑厂 14 nm 产线
– 替换 250 W 卤素,单台节省 1.2 kW 功耗,全年省电 10 万度;
– 光源维护周期从季度延长到 3 年,OEE + 2.1 %。
存储器龙头 3 nm pilot
– SELONE N 405 nm 通道与 EUV 曝光机预对准模块集成,对准标记捕获率由 97 % 提升到 99.5 %;
– 单批次 25 片 wafer 预对准时间缩短 18 s,折算年化产能 + 1.8 万片。
五、选型与集成指南
‑ 硬件触发:5 V TTL,延迟 < 100 ns,抖动 < 50 ns。
3 热管理
‑ 100 % 连续输出时,外接 1 L/min 水冷板即可把壳温控制在 35 °C 以下。
‑ SEMI S2/S8、CE、RoHS 全部通过,可直接上 FAB 二次配。
六、结语
当 EUV、High-NA、GAA 成为头条,人们容易忽略:70 % 的良率损失仍来自“测不准"。SELONE N 用一颗冷光源把照度推向 10⁶ lx 量级,让“可见光"在 3 nm 时代继续担当守门员——它不抢风头,却能让 overlay 再稳 0.3 nm,让缺陷再小 2 µm,让产能再多 3 %。
在半导体制造的纳米长跑里,SELONE N 就是那束不发热的“冷太阳",照亮每一道关键工序,也照亮良率与成本的下一个拐点。
扫一扫