products category
Related articles
otsukael静态光散射光度计 照度计SLS-6500HL的介绍绝对分子量、惯性半径和第二维里系数可以使用静态光散射法测量。可以进行 Zimm plot、Berry plot、Zimm square root plot、单一浓度法 plot、Debye plot 等各种分析。确定胶束的总数。可选的棒状样品池支架可对光纤材料(散装)进行绝对散射强度测量。
联系电话:
品牌 | 其他品牌 | 产地 | 国产 |
---|
otsukael静态光散射光度计 照度计SLS-6500HL的介绍
otsukael静态光散射光度计 照度计SLS-6500HL的介绍
绝对分子量、惯性半径和第二维里系数可以使用静态光散射法测量。
可以进行 Zimm plot、Berry plot、Zimm square root plot、单一浓度法 plot、Debye plot 等各种分析。
可选的棒状样品池支架可对光纤材料(散装)进行绝对散射强度测量。
膜厚测量范围 1 nm 至 92 μm(SiO 2换算)
薄膜厚度值的高重复性
每点1秒以内的高速测量
图案可瞄准微小点(最小Φ3μm)
适用于图案化晶圆的膜厚测绘
可以获取用于图案对齐的图像
除了可以进行高精度薄膜分析的分光椭圆偏光法外,它还通过实现自动可变测量角度机构来兼容所有类型的薄膜。除了传统的旋转分析器方法外,还通过为延迟板提供自动安装/拆卸机构提高了测量精度。 |
可在紫外-可见(300 至 800 nm)波长范围内测量椭圆参数
能够分析纳米级多层薄膜的膜厚
通过 400 通道或更多通道的多通道光谱快速测量椭圆光谱
支持通过可变反射角测量对薄膜进行详细分析
通过创建光学常数数据库和添加配方注册功能提高可操作性
椭圆参数(tanψ,cosΔ)测量
光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析
膜厚分析
半導体ウェーハ
ゲート酸化薄膜,窒化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe, BPSG,TiN
レジストの光学定数(波長分散)
化合物半導体
AlxGa(1-x)As 多層膜,アモルファスシリコン
FPD
配向膜
各種新素材
DLC(Diamond Like Carbon),超伝導用薄膜,磁気ヘッド薄膜
光学薄膜
TiO2,SiO2,反射防止膜
リソグラフィー分野
g線(436nm),h線(405nm),i線(365nm)などの各波長におけるn,k評価