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IS-POLISHER精密小型试样研磨机ISPP-1000的特长介绍

更新时间:2024-06-28      浏览次数:37


日本IS-POLISHER精密小型试样研磨机ISPP-1000的特长介绍

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ISPP-1000是以研磨较小的试样为目的而开发的,擅长于以电子显微镜为首的各种分析分析用的试样研磨。


特长

CP用试样的预处理研磨


直接安装横截面抛光机离子铣削用的试料载置台,备有可轻松形成研磨面直角的专用试料支架!


仅用ISPP就能给出EBSD的晶体取向面

通过研磨时间、研磨压、速度、摆动动作的设定、独的创的试样保持、研磨量调整机构,可以进行对组织结构损伤较少的研磨。 

另外,通过使用可选的配重消除器,可以进一步减轻试样的负担,将损伤抑制在最小限度。

轻松实现高放大率的倾斜研磨

在ISPP中,通过在试料支架上安装可选的万向调整器,可以通过2个微型单元在各个方向上最多调整6度,在整个圆周方向上调整

倾斜角。 微分辨率相当于每存储器0.02度。 为了得到高放大率的浅倾斜角也可以高精度地设定。

半导体截面样品制作又快又漂亮

备有可以直接夹紧器件的结构的试料支架。 由此,不需要包埋处理的时间,可以实现压倒性的分析TAT缩短。


规格选项

尺寸框体部
( w ) 205毫米×( d ) 225毫米×( h ) 155毫米
10公斤
设置空间( w ) 335mm×(D ) 260mm×(H ) 330mm
除了突起部
磨盘φ110mm
电源AC100~240V
50/60Hz
65W(max )

系统结构

主体套件研磨机主体倒立光显微镜
(物镜10倍/目镜20倍)
废液罐
1个研磨盘
交流适配器
刀柄组件金属材料用摆臂、配重块
平面用支架、标准支架
半导体电子部件用摆臂、配重块
集成电路支架、标准支架*1
选项物镜4倍、20倍
目镜16倍、10倍*2
显微镜用照相机单元PC用USB输出型
粗微动
千分尺
最小分辨率1μm
磨盘SUS440C HRC55

消耗品

磨料耐水纸型600#、800#、1200#、1500#
胶片类型D AO SC 1μm、3μm、5μm、9μm
磨光型绒面革垫、尼龙垫(织布)
钻石轮电沉积/400#、800#
树脂/600#、800#
金刚石浆料0.5μm、1μm、3μm (喷射式)
胶体二氧化硅各种


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