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更新时间：2024-04-13 
浏览次数：82监测控制生产过程中移动薄膜厚度。高达100 Hz的采样率可以在多个测量位置得到
F30 光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及
电介质层的均匀性。
分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的，或轻度吸收的薄膜。 这实
际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。
极大地提高生产力
低成本 —几个月就能收回成本
A精确 — 测量精度高于 ±1%
快速 — 几秒钟完成测量
非侵入式 — 完的全的沉积室以外进行测试
易于使用 — 直观的 Windows™ 软件
几分钟就能准备好的系统
型号 | 厚度范围* | 波长范围 |
|---|---|---|
| F30 | 15nm-70µm | 380-1050nm |
| F30-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm |
| F30-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
| F30-UV | 3nm-40µm | 190-1100nm |
| F30-UVX | 3nm - 250µm | 190-1700nm |
| F30-XT | 0.2µm - 450µm | 1440-1690nm |
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