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KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 监控薄膜沉积,最的强的有力的工具

更新时间:2024-04-13      浏览次数:44

KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 监控薄膜沉积,最的强的有力的工具

在线厚度测量系统

监测控制生产过程中移动薄膜厚度。高达100 Hz的采样率可以在多个测量位置得到

F30 系列


监控薄膜沉积,最的强的有力的工具

F30 光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及

电介质层的均匀性。



样品层

分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。 这实

际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。

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各项优点:

  • 极大地提高生产力

  • 低成本 —几个月就能收回成本

  • A精确 — 测量精度高于 ±1%

  • 快速 — 几秒钟完成测量

  • 非侵入式 — 完的全的沉积室以外进行测试

  • 易于使用 — 直观的 Windows™ 软件

  • 几分钟就能准备好的系统

型号规格

*取决于薄膜种类

型号

厚度范围*波长范围
F3015nm-70µm380-1050nm
F30-EXR15nm - 250µm380-1700nm
F30-NIR100nm - 250µm950-1700nm
F30-UV3nm-40µm190-1100nm
F30-UVX3nm - 250µm190-1700nm
F30-XT0.2µm - 450µm1440-1690nm


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